近法向光谱反射计

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近法向光谱反射计是工业和研究中使用的薄膜厚度分析的基本仪器。NNSR(型号:HO-NNSR-01)能够高速、重复地分析薄膜厚度、复杂折射率和表面粗糙度。NNSR 理论采用菲涅尔方程的复杂矩阵形式。绝对反射光谱是反射计背后的原理;它是反射光束(通常是多色的)强度与入射光束强度的比率。

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近法向光谱反射计是工业和研究中使用的薄膜厚度分析的基本仪器。能够高速、重复地分析薄膜厚度、复杂折射率和表面粗糙度。NNSR 理论采用菲涅尔方程的复杂矩阵形式。绝对反射光谱是反射计背后的原理;它是反射光束(通常是多色的)强度与入射光束强度的比率。垂直入射到样品表面的光束依次从薄膜的顶部和底部反射,然后发生干涉,并通过计算机通过光纤(双分叉光纤)引导到连接CCD 的光谱仪。在显示器上,我们得到干涉振荡与薄膜厚度成正比的光谱图。

特点:
分析单层和多层薄膜(间接法)
用于法向入射角反射率测量的光纤探头。
用于绝对反射率测量的CCD线性阵列检测器。
用于厚度测量的Levenberg – Marquardt曲线拟合算法。
基于 FFT 的厚层厚度测量,以PET薄膜为标准。
用于粗糙度测量的线性、Bruggemann 和 Maxwell Garnet 近似模型
吸收率和透射率研究。
用于n和k值的参数化色散模型,如 Cauchy、sellimier、combination 和 drude
用户可扩展材料库
数据可以保存为 Excel 文件,以提取光学特性

近法向光谱反射计反射计可用于分析各种堆叠(如电介质、晶体、非晶态、金属和吸收样品)的单层、多层、独立和粗糙层厚度。它还可以直接找到线性电介质薄膜的绝对透射率和吸收率。粗糙度处理采用EMA建模完成,例如线性、Bruggemann 和 Maxwell garnet近似模型。提供手动扫描以找出薄膜的粗糙度和均匀性。无需折射率或任何其他光学特性,NNSR 就能找到薄/厚膜的厚度,并估计其光学特性。

近法向光谱反射计/透射计

型号: HO-NNSRT-02
波长范围:350-950nm
光斑尺寸:70 微米
XY 样品台行程:25x25mm(可提供电动台)

HO-NNSRT-02 透射仪/反射仪是一种精密仪器,旨在准确测量各种样品的光谱透射率和反射率。规格与 HO-NNSR-01 相同。该系统由两个光纤耦合CCD光谱仪组成,用于透射率和反射率测量。使用30W光纤耦合石英卤素灯作为光源。样品台建立在刚性系统上以确保稳定性,并可调节以适应各种光学器件。

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