薄膜光谱反射仪是工业和研究中使用的薄膜厚度分析的基本仪器。TFSR 型号：HO-HAI-TFR-01SP 能够高速、可重复地分析薄膜厚度、复杂折射率和表面粗糙度。TFSR 理论采用菲涅尔方程的复杂矩阵形式来计算反射率和透射率。绝对反射光谱是反射仪背后的原理；它是反射光束（通常是单色）强度与入射光束强度的比率。通常入射到样品表面的光束依次从薄膜表面的顶部和底部反射，这些表面发生干涉，并通过计算机通过光纤引导到附接 CCD的光谱仪。在显示器上，我们得到干涉振荡与薄膜厚度成正比的光谱图。

特征
► 分析单层和多层薄膜
► 光纤探头用于在法向入射角测量反射率
► CCD线性阵列图像传感器用于同时测量每个波长的反射率
► 用户可扩展材料库
► 数据可以保存为 Excel 或文本文件
► 高级数学拟合算法
► 基于FFT的厚度测量
► 提取厚度和光学常数
► 参数化模型

薄膜光谱反射仪可用于分析各种堆叠（如介电、晶体、非晶、金属和吸收样品）的单层、多层、独立和粗糙层厚度。它还可以直接找到绝对透射率和吸收率。粗糙度处理采用 EMA 建模完成。它还可以找到所研究样品的光学电导率、摩尔折射率和布儒斯特角。

规格：
薄膜厚度范围：25nm – 35um
反射波长范围：400nm – 850nm
透射率/吸光度范围：0 – 100%
光源：钨卤石英灯，50W
检测器：CCD 线性阵列，3648 像素
光谱仪：Spectra CDS 215
NSF – 66 上SiO2的典型精度：± 1 nm
同一样品的精度：± 20 nm
光功率：20 W
光斑尺寸：1 mm
光纤：带 SMA 光纤耦合器的多模双分叉光纤
参考样品：抛光 NSF-66 和 N-Bk7
标准样品：NSF- 66 基板上的 SiO2 薄膜
测量模式：曲线拟合/回归算法、FFT、FFT + 曲线拟合
分散公式：柯西、Sellmeiers 和经验模型
EMA 模型：线性 EMA、Bruggemann、Maxwell Garnett、Lorentz – Lorenz 模型
材料库：可扩展材料用户库
PC 接口：USB