光谱椭偏仪广泛用于薄膜分析和测量。

光谱椭偏仪采用旋转分析仪椭偏技术来表征薄膜样品。它使用高速CCD阵列检测来收集整个光谱。它可以测量厚度从纳米到数十微米的薄膜以及从透明到吸收材料的光学特性。它可以精确测量折射率、薄膜厚度和消光系数等光学常数。

我们的标准系统配有石英卤素灯，可在红外范围内可见。我们的光谱椭偏仪软件允许用户测量和分析多层薄膜和复杂的薄膜结构。

提供自准直仪、Z 台和倾斜平台用于样品对准。XY 电动台和电动旋转台是用于绘制薄膜均匀性的非可选功能。

规格：

光谱范围：450-800nm
检测器：线 CCD 相机
分辨率：2nm
光源：卤素灯
入射角：50-75 度（分辨率：0.1 度，自动化操作）
厚度测量范围：0.1nm – 10µm
薄膜厚度分辨率：0.01nm
测量 R.I. 分辨率：0.001
样品对准：半自动（光学检测），手动 10mm 高度调节和倾斜样品台特点：X-Y 平移超过 150 x 150mm（可选）
可测量的薄膜参数：折射率、消光系数、吸收系数和薄膜厚度

软件功能：
获取并分析不同波长和角度的 psi、delta 和反射率用户可扩展材料库
数据可以保存为 Excel 或文本文件
高级数学拟合算法
提取厚度和光学常数
参数化模型
多层厚度测量