光谱椭偏仪广泛用于薄膜分析和测量。光谱椭偏仪采用旋转分析仪椭偏技术来表征薄膜样品。它使用高速CCD阵列检测来收集整个光谱。它测量从纳米厚度到数十微米的薄膜以及从透明到吸收材料的光学特性。它精确测量折射率、薄膜厚度和消光系数等光学常数。

我们的标准系统配备石英卤素灯，可从可见光到红外范围。我们的光谱椭偏仪软件允许用户测量和分析多层薄膜和复杂的薄膜结构。提供自准直仪、Z 台和倾斜平台以对准样品。XY 电动台和电动旋转台是用于映射薄膜均匀性的非可选功能。

椭偏原理

椭偏是一种高度灵敏的薄膜分析技术。该原理依赖于光从表面反射时偏振状态的变化。为了表征偏振状态，对应于电磁波的电场方向；选择两个方向作为参考，p 方向（平行）和 s 方向（垂直）。反射光的相位变化在 p 方向和 s 方向上是不同的。椭圆偏振法测量这种偏振状态；

其中 Ψ 和 Δ 分别是p和s分量的振幅比和相移。由于椭圆偏振法测量两个值的比率，因此非常准确且可重复。

软件功能
获取并分析不同波长和角度的 PSI、delta 和反射率
用户可扩展材料库
数据可以保存为 Excel 或text文件高级数学拟合算法
提取厚度和光学常数
参数化模型
多层厚度测量
可以提供定制的光谱椭偏仪以适应各种各样的应用。